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ZTM系列密閉制冷加熱循環裝置要求安裝于室內，可與其它設備聯用，為需冷(熱)源實驗或生產過程提供可調節溫度環境，滿足工藝過程需求。載熱體輸出溫度范圍-40～200℃，溫度穩定性±0.5℃。應用范圍：化工、制藥或生物領域雙層反應釜的溫度控制、高壓反應釜溫度控制、汽車工藝中熱測試平臺溫度控制、微反應器技術領域的放大工藝過程溫度控制、半導體設備溫度控制、攪拌罐溫度控制、蒸餾系統溫度控制產品拆封安裝前，請注意以下注意事項：1.電源連接按照設備銘牌中要求的電源性質提供電源...

循環冷卻器適用于需要維持低溫條件的儀器或設備。例如旋轉蒸發儀、生物發酵罐、反應釜、化學反應器、原子吸收、ICP、ICP-MS、核磁共振、電鏡、磁控濺射、激光器等配套場景均可配備循環冷卻器進行降溫使用。那么，選擇循環冷卻器需要關注哪些要點？正確使用方法及步驟有哪些？以下給大家做一簡單介紹。01循環冷卻器的工作原理循環冷卻器中的冷卻介質(一般使用乙二醇水溶液或純水)在制冷系統中經過降溫、PID控溫后達到預定溫度，通過循環系統將其輸送至需冷設備進行降溫，降溫后返回制冷系統進行下一次...

一、產品創新點：抗強化學腐蝕，無污染、免保養，低噪音、低震動，過熱保護。二、產品介紹：MP-201ZA隔膜真空泵為蒸發、蒸餾、結晶、干燥、升華、減壓過濾等過程提供負壓條件。可替代循環水式真空泵和旋片式真空泵、體積小，重量輕。廣泛運用于化學、制藥、石化等行業對腐蝕性樣品的處理需求，如電泳轉漬、固相萃取、溶劑純化配旋轉蒸發儀等。三、主要特點：1、抗強化學腐蝕：耐腐蝕真空泵使用了特殊的隔膜(膜片表面復合PTFE涂層)和泵頭設計，包括全部接頭和管路，保證與氣體接觸的部分均為進口PTF...

低溫恒溫攪拌反應浴是一種重要的化學實驗設備，它能夠精確控制化學反應的溫度，從而提高實驗的精度和可靠性。然而，影響低溫恒溫攪拌反應浴控溫靈敏度的因素是多方面的，包括反應浴液體積、液體深度、液體攪拌速度、環境溫度以及溫度傳感器位置等。下面，我們將對這些因素進行詳細的分析。首先，反應浴液體積是影響控溫靈敏度的重要因素之一。液體體積越大，溫度變化所需要的能量也越大。反之，反應浴液體積較小時，即使溫度變化很小，也會導致實驗結果出現不同。因此，在使用低溫恒溫攪拌反應浴時，需要根據實驗要求...

旋轉蒸發儀是一種用于實驗室中蒸發和濃縮溶液的設備，使用時需要進行正確的搬運和故障排除。本文將詳細介紹旋轉蒸發儀的搬運方法和故障排除方法。首先，旋轉蒸發儀須由專業人員攜帶，不得碰撞，不得倒放。在托運時，須放在裝有軟墊的防震箱子中，并在箱外標明“不得倒置”的字樣，寫上“光學或電子儀器，小心輕放，嚴禁重壓”。必要時應派人護送。在汽車運輸時，要防止顛波和震動，一般應放在車的前部軟墊上，或由人抱住放在腿上，亦可背在背上，不得放在車箱底柜上。在短距離搬運時，儀器要豎著拿，使儀器保持垂直軸...